楼主提供的不是Q3最新版本的译文,要注意与新版对照。最新版: Q3A(R1) 新原料药的杂质 Impurities in New Drug Substances 2002.02.07 Q3B(R2) 新制剂的杂质 Impurities in New Drug Products 2006.06.02 Q3C(R3) 杂质:残留溶剂的指南
Impurities: Guideline for Residual Solvents 2005.11(重新编号)
Part I Q3C杂质:残留溶剂的指南—1997.07.17 Part II Q3C(R1)/Q3C(M) 杂质:残留溶剂(维护)四氢呋喃(THF)的日允许接触量—2002.09.12;
Part III Q3C(R2)/Q3C(M)
杂质:残留溶剂(维护)N-甲基吡咯烷酮(NMP)的日允许接触量—2002.09.12
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